離子光氧一體機凈化設(shè)備是一種專門去除有毒有害氣體及惡臭氣體的一種裝置。它具有_率、運行成本低、設(shè)備占地面積小，自重輕、無_機械動作，無噪音等特點，等離子光解一體機凈化設(shè)備凈化效率在95%以上。是目前市場上_的廢氣凈化設(shè)備。

反應原理
當廢氣進入等離子光解一體機凈化設(shè)備內(nèi)時，先經(jīng)過等離子體化學反應過程，即電子首先從電場獲得能量，通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發(fā)，同時有部分分子被電離， 從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。(在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成_無害或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。)
然后部分有機廢氣再通過破壞、分解、催化氧化把污染氣體分解為_無害無味氣體。采用高能C波段光線強裂污染氣體分子鏈，改變物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。O3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 可有效地殺滅細菌，將有毒有害物質(zhì)破壞且改變成為低分子無害物質(zhì)。在C波段激光刺激催化劑涂層產(chǎn)生活性，強化催化氧化作用。在分解過程中產(chǎn)生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有_強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有_強的_效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，_達到脫臭及殺_的目的。